Kaedah Saduran Emas Tebal Tanpa Elektro Selektif

Matlamat

Untuk membangunkan kaedah penyaduran emas tebal tanpa elektro terpilih dan menjadi proses rawatan permukaan yang serba boleh

 

Tujuan

Ketebalan emas terpilih adalah melebihi {{0}}.3um, dan ketebalan emas bukan selektif melebihi 0.1um

 

Masalah

①Pemendapan emas kimia bagi tindak balas anjakan, dengan ketebalan emas 0.03-0.05 mikron, hanya sesuai untuk permukaan kimpalan.

②Apabila permukaan nikel dilitupi oleh lapisan emas secara beransur-ansur, kadar pemendapan menjadi perlahan, dan ketebalan emas sukar untuk lebih besar daripada 0.3 mikron dan padat.

③Penyaduran elektrik memerlukan petunjuk tambahan, yang menyusahkan untuk ditambah apabila rangkaian dijalin

 

Prinsip

①Lapisan nikel digunakan untuk pengurangan pemangkin. Atom hidrogen diserap untuk mendapatkan elektron. Hidrogen atom disediakan oleh reduktor. Hidrogen atom kehilangan elektron dan memasuki larutan untuk menjadi ion hidrogen.

②Pendawaian asal papan litar dan lapisan logam pad ikatan yang sama memainkan peranan sebagai pengalir elektron. Ion emas mendapat elektron secara berterusan pada permukaan emas dan deposit, yang bersamaan dengan electrogilding

 

Kaedah dan langkah

Langkah 1: Jalankan penyaduran emas anjakan kimia konvensional, gambar adalah imej 10000 kali SEM permukaan emas, dan ketebalan emas adalah<0.02um

Matlamat: Dedahkan lapisan nikel untuk mendapatkan elektron pengurangan

 

Langkah2: Tampal filem anti penyaduran untuk mendedahkan pad ikatan yang akan disadur dengan emas tebal

 

Langkah 3: Jalankan penyaduran emas tanpa elektro pengurangan pertama

Gambar itu adalah imej SEM emas 10000 kali ganda

 

 

Langkah 4: Keluarkan filem anti salutan

 

Langkah5: Kurangkan penyaduran emas tanpa elektro sekali lagi

Gambar itu adalah imej SEM emas 10000 kali ganda

 

 

 

Keputusan

 

Hasil pengukuran ketebalan emas	Penggantian pertama emas nipis kimia	Penyaduran pengurangan pertama emas tebal kimia	Penyaduran pengurangan kimia kedua emas tebal
Kedudukan emas pekat kimia terpilih	0.009-0.014μm	0.293-0.349μm	0.326-0.385μm
Lokasi lain	0.009-0.014μm	Ditutup dengan filem anti salutan	0.105-0.111μm

 

Kesimpulan

Kaedah penyaduran emas electroless terpilih boleh memenuhi keperluan sasaran.